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ITO是一種N型的氧化物半導(dǎo)體，中文名為氧化銦錫，因?yàn)槠鋵?dǎo)電性、透光率較好常用于玻璃或柔性材PET基材上的導(dǎo)電氧化物，用于觸摸屏、光伏、冷光片、傳感器、電致色玻璃、發(fā)光玻璃等行業(yè)。通常情況下利用平面磁控技術(shù)在玻璃或柔性PET等材料上濺射ITO材料，并通過(guò)高溫退火處理得到ITO鍍膜玻璃或薄膜材料。

ITO導(dǎo)電玻璃

而ITO鍍膜玻璃或薄膜原材料由于是一整塊都是ITO材料，應(yīng)用到觸控面板、顯示面板、太陽(yáng)能電池、微電子、光電子等領(lǐng)域中就需要對(duì)其進(jìn)行加工，形成特定線路圖，而對(duì)ITO材料的初加工工藝成了關(guān)鍵環(huán)節(jié)。

ITO鍍膜玻璃或薄膜的材料線路成型加工主要有黃光曝光、化學(xué)蝕刻、等離子蝕刻以及激光刻蝕設(shè)備。

黃光曝光加工效果好，速度快，缺點(diǎn)是需要用到掩膜版，ITO線路要求有的多達(dá)數(shù)千種，每一種都需要掩膜版，這對(duì)設(shè)計(jì)加工的成本太高，就是存儲(chǔ)也會(huì)浪費(fèi)大量的空間，因此黃光曝光工藝目前只保留在特殊要求領(lǐng)域中使用。

黃光曝光設(shè)備（圖片源自網(wǎng)絡(luò)）

化學(xué)蝕刻加工速度高，效果好，缺點(diǎn)是大量的化學(xué)試劑對(duì)人體和環(huán)境會(huì)造成污染，特別是在當(dāng)今社會(huì)中人與自然的協(xié)調(diào)愈加重要，環(huán)境問(wèn)題已加以限制，并控制在一定范圍內(nèi)。當(dāng)然化學(xué)蝕刻也有技術(shù)工藝缺點(diǎn)隨著下游產(chǎn)品對(duì)ITO鍍膜材料的要求越來(lái)越高，超細(xì)線寬的ITO材料化學(xué)蝕刻工藝已感到力不從心。

化學(xué)刻蝕設(shè)備（圖片源自網(wǎng)絡(luò)）

等離子蝕刻效果和速度都非常理想，不過(guò)工藝流程較為復(fù)雜，灑家也不太明白具體的工藝流程，想想晶圓的制作流程，想來(lái)大家也知道了其復(fù)雜程度。不過(guò)相比較于ITO鍍膜材料的加工，等離子蝕刻設(shè)備還是小兒科了，很容易實(shí)現(xiàn)，也有簡(jiǎn)易版的適用于ITO材料，相比較而言等離子刻蝕的成本相對(duì)較高。

等離子刻蝕設(shè)備（圖片源自網(wǎng)絡(luò)）

激光刻蝕設(shè)備是目前的主流ITO刻蝕工藝，適用于柔性pet以及玻璃上的導(dǎo)電ITO激光刻蝕，優(yōu)點(diǎn)是工藝流程簡(jiǎn)單，導(dǎo)入CAD圖紙即可相機(jī)自動(dòng)定位加工，一次性成型，對(duì)環(huán)境無(wú)污染，無(wú)掩膜版，只用消耗電力，并且易于自動(dòng)化，加工尺寸可超過(guò)3m以上，優(yōu)勢(shì)顯而易見(jiàn)。目前ITO材料刻蝕的線寬要求越來(lái)越高，傳統(tǒng)的納秒紅外激光刻蝕機(jī)的最小線寬只能做到20微米，而隨著激光技術(shù)的進(jìn)步，ITO材料刻蝕最小線寬可做到10微米以下，可保持與ITO材料應(yīng)用行業(yè)需求的發(fā)展同步。

ITO激光刻蝕設(shè)備

ITO鍍膜玻璃、薄膜刻蝕工藝是太陽(yáng)能電池、觸摸屏、光電子等行業(yè)領(lǐng)域中重要工藝環(huán)節(jié)，要保證生產(chǎn)效率、生產(chǎn)成本、環(huán)境保護(hù)，ITO激光刻蝕機(jī)必不可少，武漢元祿光電專業(yè)生產(chǎn)激光刻蝕設(shè)備，擁有豐富的經(jīng)驗(yàn)、過(guò)硬的技術(shù)，歡迎大家前來(lái)洽談了解。

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