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發(fā)布時(shí)間:2019-05-10 來源:元祿光電
導(dǎo)讀
上海微電子裝備公司總經(jīng)理賀榮明去德國考察時(shí),有工程師告訴他:“給你們?nèi)讏D紙,也做不出來。”賀榮明幾年后理解了這句話。
光刻機(jī),被稱為現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花,制造難度非常大,全世界只有少數(shù)幾家公司能夠制造。其售價(jià)高達(dá)7000萬美金。用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)是中國在半導(dǎo)體設(shè)備制造上最大的短板,國內(nèi)晶圓廠所需的高端光刻機(jī)完全依賴進(jìn)口。
在能夠制造機(jī)器的這幾家公司中,尤其以荷蘭(ASML)技術(shù)最為先進(jìn)。價(jià)格也最為高昂。光刻機(jī)的技術(shù)門檻極高,堪稱人類智慧集大成的產(chǎn)物。
“十二五”科技成就展覽上,上海微電子裝備公司(SMEE)生產(chǎn)的中國最好的光刻機(jī),與中國的大飛機(jī)、登月車并列。它的加工精度是90納米,相當(dāng)于2004年上市的奔騰四CPU的水準(zhǔn)。國外已經(jīng)做到了十幾納米。
ASML光刻機(jī)的簡易工作原理圖
簡單介紹一下圖中各設(shè)備的作用:
測量臺、曝光臺:承載硅片的工作臺,也就是雙工作臺。一般的光刻機(jī)需要先測量,再曝光,只需一個(gè)工作臺,而ASML有個(gè)專利,有兩個(gè)工作臺,實(shí)現(xiàn)測量與曝光同時(shí)進(jìn)行。而本次“光刻機(jī)雙工件臺系統(tǒng)樣機(jī)研發(fā)”項(xiàng)目則是在技術(shù)上突破ASML對雙工件臺系統(tǒng)的技術(shù)壟斷。
激光器:也就是光源,光刻機(jī)核心設(shè)備之一。
光束矯正器:矯正光束入射方向,讓激光束盡量平行。
能量控制器:控制最終照射到硅片上的能量,曝光不足或過足都會(huì)嚴(yán)重影響成像質(zhì)量。
光束形狀設(shè)置:設(shè)置光束為圓型、環(huán)型等不同形狀,不同的光束狀態(tài)有不同的光學(xué)特性。
遮光器:在不需要曝光的時(shí)候,阻止光束照射到硅片。
能量探測器:檢測光束最終入射能量是否符合曝光要求,并反饋給能量控制器進(jìn)行調(diào)整。
掩模版:一塊在內(nèi)部刻著線路設(shè)計(jì)圖的玻璃板,貴的要數(shù)十萬美元。
掩膜臺:承載掩模版運(yùn)動(dòng)的設(shè)備,運(yùn)動(dòng)控制精度是nm級的。
物鏡:物鏡由20多塊鏡片組成,主要作用是把掩膜版上的電路圖按比例縮小,再被激光映射的硅片上,并且物鏡還要補(bǔ)償各種光學(xué)誤差。技術(shù)難度就在于物鏡的設(shè)計(jì)難度大,精度的要求高。
硅片:用硅晶制成的圓片。硅片有多種尺寸,尺寸越大,產(chǎn)率越高。題外話,由于硅片是圓的,所以需要在硅片上剪一個(gè)缺口來確認(rèn)硅片的坐標(biāo)系,根據(jù)缺口的形狀不同分為兩種,分別叫flat、notch。
內(nèi)部封閉框架、減振器:將工作臺與外部環(huán)境隔離,保持水平,減少外界振動(dòng)干擾,并維持穩(wěn)定的溫度、壓力。
光刻機(jī)制造難度有多大?
光刻機(jī)跟照相機(jī)差不多,它的底片,是涂滿光敏膠的硅片。電路圖案經(jīng)光刻機(jī),縮微投射到底片,蝕刻掉一部分膠,露出硅面做化學(xué)處理。制造芯片,要重復(fù)幾十遍這個(gè)過程。
位于光刻機(jī)中心的鏡頭,由20多塊鍋底大的鏡片串聯(lián)組成。鏡片得高純度透光材料+高質(zhì)量拋光。SMEE光刻機(jī)使用的鏡片,得數(shù)萬美元一塊。
ASML的鏡片是蔡司技術(shù)打底。鏡片材質(zhì)做到均勻,需幾十年到上百年技術(shù)積淀。
“同樣一個(gè)鏡片,不同工人去磨,光潔度相差十倍。”SMEE總經(jīng)理賀榮明說,他在德國看到,拋光鏡片的工人,祖孫三代在同一家公司的同一個(gè)職位。
另外,光刻機(jī)需要體積小,但功率高而穩(wěn)定的光源。ASML的頂尖光刻機(jī),使用波長短的極紫外光,光學(xué)系統(tǒng)極復(fù)雜。有頂級的鏡頭和光源,沒極致的機(jī)械精度,也是白搭。光刻機(jī)里有兩個(gè)同步運(yùn)動(dòng)的工件臺,一個(gè)載底片,一個(gè)載膠片。兩者需始終同步,誤差在2納米以下。兩個(gè)工作臺由靜到動(dòng),加速度跟導(dǎo)彈發(fā)射差不多。賀榮明說:“相當(dāng)于兩架大飛機(jī)從起飛到降落,始終齊頭并進(jìn)。一架飛機(jī)上伸出一把刀,在另一架飛機(jī)的米粒上刻字,不能刻壞了?!倍?,溫濕度和空氣壓力變化會(huì)影響對焦?!皺C(jī)器內(nèi)部溫度的變化要控制在千分之五度,得有合適的冷卻方法,精準(zhǔn)的測溫傳感器。”賀榮明說。SMEE最好的光刻機(jī),包含13個(gè)分系統(tǒng),3萬個(gè)機(jī)械件,200多個(gè)傳感器,每一個(gè)都要穩(wěn)定。像歐洲冠軍杯決賽,任何一個(gè)人發(fā)揮失常就要輸球。
ASML光刻機(jī)設(shè)備圖
世界上最貴精密儀器出廠地
目前全球只有一家企業(yè)在光刻機(jī)市場上占據(jù)了80%的份額,就是處于荷蘭的ASML,旗下所研發(fā)的EUV光刻機(jī)曾售價(jià)高達(dá)1億美元一臺,而且還不一定有貨。皆因每臺光刻機(jī)的裝配大約需要50000個(gè)零件左右。國際上著名的芯片制造商如Intel、臺積電、三星都是它名下的股東。
阿斯麥公司ASML Holding NV創(chuàng)立于1984年,是從飛利浦獨(dú)立出來的一個(gè)半導(dǎo)體設(shè)備制造商。前稱ASM Lithography Holding N.V.,于2001年改為現(xiàn)用名,總部位于荷蘭費(fèi)爾德霍芬,全職雇員12,168人,是一家半導(dǎo)體設(shè)備設(shè)計(jì)、制造及銷售公司。元祿光電cz-huawei.com
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